当前位置:首页 > 图像工具 > 图像其它 > BAO Mask Avenger(AE高级遮罩插件)v2.7.1官方免费版

BAO Mask Avenger(AE高级遮罩插件)v2.7.1官方免费版

BAO Mask Avenger
BAO Mask Avenger(AE高级遮罩插件)v2.7.1官方免费版
  • 软件大小:3.23 MB
  • 软件语言:简体中文
  • 软件类型:图像其它
  • 软件授权:免费版
  • 更新时间:2019-08-08 14:25:56
  • 运行平台:Win2003,WinXP,Win2000,Win9X
  • 软件评分:
  • 软件官网:www.ucbug.cc
本地下载
  • 软件介绍
  • 相关文章
  • 下载地址

BAO Mask Avenger是一款非常实用的高级AE遮罩插件,有了这款AE插件,我们就可以直接在AE中控制和编辑Mask路径和遮罩的顶点,同时在三维空间制作出路径动画。
BAO Mask Avenger

功能特色:

拉姆预览保护。以前版本的最大问题是Ram预览无效
通过插件。 Mask Avenger 2.0新的烘焙系统避免了这一点。
3D面具。 Mask Avenger现在可以在3D中控制蒙版,而无需使用空图层和表达式。然后更快地计算掩模,并简化表达式写入。
背景烘焙。当需要修改蒙版时,蒙版复仇者会立即对其进行转换当前时间,并在后台烘烤工作区域的其余部分。这意味着您可以继续工作而面具复仇者正在忙着烘焙。这取代了«Dynamic»和«bake»模式。更好地塑造层兼容性。与“动态”模式相关的错误随着新烘焙而消失系统。
工作区和图层的持续时间不再影响Mask Avenger的计算速度。当然,烘焙100,000个关键帧需要超过10个,但新的烘焙系统允许您继续工作而它正在烘烤。不再需要Mask Renderer。 Mask Avenger现在使用AE自己的掩蔽功能,运行速度更快。
面具预览。 Mask avenger 2.0有一个预览系统,可以动态地显示它们之前的变化
适用于面具。这可以避免在表达式,其他图层或相机修改蒙版时出现延迟。

下载地址
BAO Mask Avenger(AE高级遮罩插件)v2.7.1官方免费版
普通下载地址